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產(chǎn)品中心Products 當前位置: 首頁> 產(chǎn)品中心 > CVD系統(tǒng)/PECVD系統(tǒng) > CVD系統(tǒng)
  • CVD管式爐
    時間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:6977

    CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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  • 1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    時間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:7224

    CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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  • 1200℃滑動式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    時間:2024-10-28生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:5498

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

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  • 1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    時間:2024-10-28生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:5949

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計,特別是應用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

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  • 石墨烯系統(tǒng)
    時間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:6154

    公司主營快速退火爐 馬佛爐管式電阻爐/熱處理電阻爐/高溫箱式電阻爐中環(huán)電阻爐/干燥箱/恒溫干燥箱/鼓風干燥箱/電熱鼓風干燥箱/真空干燥箱/遠紅外干燥箱/濕熱實驗箱/高溫電熱鼓風干燥箱/大型電熱鼓風干燥箱/水箱/電熱水箱/恒溫水箱/電熱恒溫水箱/萬用電爐/封閉萬用電爐/封閉電爐/CVD爐/cvd電爐/rtp爐/快速退火爐/立式電爐/管爐/石磨希電爐/RTP/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐

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